Влияние реконструкционного состояния поверхности на процессы встраивания мышьяка при молекулярно-лучевой эпитаксии арсенида галлия

Путято Михаил Альбертович
1. Институт физики полупроводников им. А. В. Ржанова СО РАН Новосибирск, Россия
Семягин Борис Рэмович
1. Институт физики полупроводников им. А. В. Ржанова СО РАН Новосибирск, Россия
Васев Андрей Васильевич
1. Институт физики полупроводников им. А. В. Ржанова СО РАН Новосибирск, Россия
vasev@isp.nsc.ru
Материал поступил в редколлегию 10.07.2008
Экспериментально определен коэффициент встраивания (SAs) мышьяка из потока молекул As4 и As2 при молекулярнолучевой эпитаксии (МЛЭ) GaAs. Установлено, что SAs не зависит от молекулярной формы мышьяка в потоке, падающего на ростовую поверхность. Показано, что SAs зависит от реконструкционного состояния ростовой поверхности GaAs(001). Поверхность с реконструкциями (4 x 2) и (2 x 4) характеризуется максимальными значениями SAs, равными 0,42 и 0,75 соответственно. Получены зависимости скорости и коэффициента встраивания As от температуры подложки (Ts) и плотности падающего потока мышьяка при МЛЭ GaAs.

Ключевые слова:
GaAs, поверхность, МЛЭ, ДБЭО, реконструкционное состояние
УДК 621.315.592: 538.971; 548.52

Влияние реконструкционного состояния поверхности на процессы встраивания мышьяка при молекулярно-лучевой эпитаксии арсенида галлия
Выходные данные: Путято М. А., Семягин Б. Р., Васев А. В., Преображенский В. В. Влияние реконструкционного состояния поверхности на процессы встраивания мышьяка при молекулярно-лучевой эпитаксии арсенида галлия. Журнал Вестник НГУ. Cерия Физика. 2008. Том 3, № 3. C. 81–87. DOI: 10.54362/1818-7919-2008-3-3-81-87